產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品定位
光學(xué)接觸角測定儀SL200L是一款專為液晶、晶圓、半導(dǎo)體、硅片及光刻膠等精密材料表面清潔度與潤濕性分析設(shè)計的設(shè)備。基于大移動平臺與模塊化設(shè)計理念，該設(shè)備支持自動進液、動態(tài)接觸角及界面張力測試，為工業(yè)質(zhì)檢與研發(fā)提供精準(zhǔn)數(shù)據(jù)支持。

光學(xué)接觸角測定儀SL200L核心技術(shù)優(yōu)勢

1. 大移動平臺設(shè)計：

• 適配大尺寸樣品（如PCB板、IPAD顯示屏、觸摸屏）的清潔度與接觸角測量。

• 支持液晶、晶圓、半導(dǎo)體等精密材料的表面潤濕性評估。

2. 高精度光學(xué)系統(tǒng)：

• 工業(yè)級輪廓鏡頭：成像清晰，確保液滴輪廓精準(zhǔn)識別。

• 石英玻璃柔光光源：均勻背景照明，提升圖像對比度。

3. 智能化軟件系統(tǒng)（CAST™3.0）：

• 動態(tài)接觸角分析：支持前進/后退角、滾動角及時間依賴性接觸角測量。

• 表面自由能計算：分析色散力、極性力、氫鍵力等分量，評估材料表面特性。

• 液-氣/液-液界面張力測試：基于懸滴法（Pendant Drop）實現(xiàn)精準(zhǔn)測量。

4. 自動進液系統(tǒng)：

• 高精度液滴控制，適配微量樣品測試，減少試劑消耗。

行業(yè)痛點解決方案

• 表面清潔度檢測：通過接觸角與界面張力測試，快速評估液晶、晶圓、半導(dǎo)體等材料的表面污染物殘留。

• 光刻膠潤濕性分析：優(yōu)化光刻工藝中的涂布均勻性與附著力，提升制造良率。

應(yīng)用領(lǐng)域

• 液晶顯示：評估屏幕表面清潔度與涂層潤濕性。

• 半導(dǎo)體制造：晶圓、硅片表面污染物檢測與潤濕性分析。

• 光刻膠研發(fā)：優(yōu)化光刻膠涂布性能，提升工藝穩(wěn)定性。

• 觸摸屏質(zhì)檢：表面清潔度與涂層附著力評估。

技術(shù)優(yōu)勢

• 高精度控制：微米級定位精度，減少機械振動干擾。

• 模塊化設(shè)計：支持功能擴展，適配多樣化測試需求。

• 操作友好性：向?qū)杰浖缑娼Y(jié)合一鍵操作功能，降低使用門檻。

接觸角定義

在固體水平平面上滴上一滴小液滴，在固體表面的固-液-氣三相交界點處，由氣-液界面和固-液界面兩切線將液相夾在其中時所形成的角度，稱為接觸角。

SL200L系列接觸角測定儀產(chǎn)品特點與優(yōu)勢

行業(yè)痛點解決方案

1. 頂視3D接觸角功能：

• 用于評估液晶、晶圓、半導(dǎo)體等高精密材料表面結(jié)構(gòu)與化學(xué)多樣性對潤濕性的影響，解決傳統(tǒng)方法無法精準(zhǔn)分析微觀粗糙表面及復(fù)雜化學(xué)組成的難題。

2. 力學(xué)鉑金板表面張力測試：

• 通過高精度力學(xué)鉑金板法檢測硅片、光刻膠表面的有機污染物殘留，解決制造過程中污染物快速篩查的行業(yè)痛點。

核心技術(shù)與配置

1. 高精度控制系統(tǒng)

• 交叉線性導(dǎo)軌技術(shù)：

• 手動控制精度0.01mm，軟件控制精度0.5μm，確保晶圓、半導(dǎo)體等精密樣品的穩(wěn)定測量。

• 9維機械結(jié)構(gòu)設(shè)計：

• 2XYZ+3水平調(diào)整系統(tǒng)，協(xié)調(diào)樣品臺、相機、進樣系統(tǒng)運作，適配大尺寸顯示屏（如IPAD、觸摸屏）測試。

• 納升級注射泵系統(tǒng)：

• 液滴控制精度達(dá)0.02μL（可擴展至nL級），滿足光刻膠微量涂布測試需求。

2. 專業(yè)化光學(xué)成像系統(tǒng)

• 高景深工業(yè)鏡頭（0.35-4.5X放大倍率）：

• 清晰捕捉液晶、硅片表面的微觀液滴形態(tài)，支持曲面校正技術(shù)分析凹凸面接觸角。

• 高速攝像系統(tǒng)：

• 德國原裝87幀/秒相機（可升級至1000幀/秒），動態(tài)記錄光刻膠潤濕過程。

• 可調(diào)LED冷光源：

• 避免液滴揮發(fā)干擾，確保光敏材料（如光刻膠）測試穩(wěn)定性。

3. 智能化分析軟件（CAST™2.0）

• 動態(tài)接觸角分析：

• 支持前進/后退角、滾動角及時間依賴性接觸角測量，適配半導(dǎo)體表面污染物動態(tài)吸附研究。

• 表面自由能模型：

• 12種算法（如Acid-base法）分析色散力、極性力，評估材料表面清潔度與涂層兼容性。

• 液-液界面張力測試：

• 基于Young-Laplace方程擬合，支持光刻膠與顯影液的界面行為分析。

4. 擴展功能與兼容性

• 模塊化進樣系統(tǒng)：

• 兼容PTFE針管、細(xì)針管，適配高粘度光刻膠及疏水材料測試。

• 標(biāo)準(zhǔn)化視頻模式：

• 支持多品牌主機升級，數(shù)據(jù)可導(dǎo)出為Excel/BMP格式，滿足科研論文與工業(yè)報告需求。

• 抗靜電設(shè)計：

• 離子風(fēng)技術(shù)消除晶圓、半導(dǎo)體測試中的靜電干擾，提升測值準(zhǔn)確性。

應(yīng)用場景

• 液晶顯示行業(yè)：屏幕表面清潔度與涂層潤濕性檢測。

• 半導(dǎo)體制造：晶圓/硅片污染物篩查、光刻膠涂布均勻性評估。

• 觸摸屏質(zhì)檢：表面附著力與清潔度分析。

• 光刻膠研發(fā)：優(yōu)化配方潤濕性能，提升工藝良率。

技術(shù)優(yōu)勢

• 精準(zhǔn)適配高精密材料：專為微電子行業(yè)設(shè)計，解決表面結(jié)構(gòu)復(fù)雜、污染物難檢測的痛點。

• 全流程自動化：一鍵完成圖像捕獲、計算與數(shù)據(jù)保存，減少人為誤差。

• 抗干擾設(shè)計：多層水平調(diào)整系統(tǒng)結(jié)合防靜電技術(shù)，確保環(huán)境下的測試穩(wěn)定性。

附件:

1、溫度控制裝置：

包括（1）樣品溫度控制（2）測試液體溫度控制；

這是兩個溫度控制系統(tǒng)，分別控制液體以及固體樣品的溫度。可單獨采購，也可以同時采購。

→固體樣品溫度控制方式可選以下兩種溫度控制方式之一：

（1）恒溫水槽控制：0-95℃，溫度誤差在0.1℃；

（2）半導(dǎo)體加熱制冷：5-85℃,溫度誤差在0.5℃；

（3）特殊溫度加熱系統(tǒng)：如200℃、400℃溫度控制要求可與我們確認(rèn)。

→液體溫度控制方式建議采用恒溫水槽的方式。

2、高溫接觸角測試：最高實現(xiàn)1400、1700、1800、2000度接觸角測試；定制產(chǎn)品，需支付定金。

3、真空環(huán)境裝置：實現(xiàn)真空或不同氣體環(huán)境下接觸角測試；定制產(chǎn)品，需支付定金。

4、樣品槽：有效控制樣品的晃動以及溫度、光線等影響；定制產(chǎn)品，需支付定金。

5、高溫界面張力測試：熔化的固體材料與空氣的界面張力測試，采用懸滴法或停滴法界面張力分析技術(shù)。定制產(chǎn)品，需支付定金。

6、全系列針管與針頭

包括： 25uL、100uL、500uL、1000uL高精度微量進樣器、以及聚四氟乙烯針頭、不銹鋼針頭（各種直徑）、塑料針頭、彎曲針頭等

7、高精度雙通道軟件控制自動注射泵

8、專用夾具：用于夾持纖維、薄膜、紙張等

9、氣泡捕獲法用石英玻璃樣品槽

10、振蕩滴(oscillating drop)測試模塊

（1）采用高頻振蕩器以及閉環(huán)式振蕩控制系統(tǒng)，控制精度更高、控制方式更為靈活，可根據(jù)客戶需求選購不同振蕩頻率和振蕩幅度的振蕩器。

（2）進樣針管可選：0.5uL、1uL、5uL、15uL、100uL、500uL、1000uL等。

（3）振蕩波形包括：正弧波、余弧波、三角波、線性波、鋸齒波等，頻率在2KHz以內(nèi)不衰減、不失真。

CAST2.0影像分析系統(tǒng)測試實圖示例

1、前進后退角分析實圖：

圖1 分析方法：曲線尺擬合法（圓擬合、spline擬合、廣義二次曲線擬合等）。

前進角/后退角測試建議采購注射泵或蠕動泵。前進角/后退角形成的技術(shù)有兩種方式：（1）增加/減少液滴量，形成前進/后退角；（2）樣品臺傾斜，形成前進后退角。如上圖所示

2 、非規(guī)則接觸角分析實圖：

圖中拍攝的是硅膠的實際效果圖，采用曲線尺擬合技術(shù)計算接觸角值。擬合因子90%以上。

圖2 分析方法：Spline曲線擬合法或Young-Laplace方程擬合法

特別聲明：

1、以上圖片資料以及技術(shù)參數(shù)因設(shè)計而進行的更改，不再另行通知，以最新確認(rèn)的產(chǎn)品資料為準(zhǔn)。

2、本公司保留一切權(quán)利。

3、阿莎®、RealDrop®、TrueDrop®、MicroDrop®、WBA®、ADSA®是上海梭倫的注冊商標(biāo)。

CAST^®、阿莎^®、ADSA^®、TrueDrop^®、RealDrop^®、TheDrop^®、MicroDrop^®、LMCA^®、Shsolon^®、梭倫^®為上海梭倫注冊商標(biāo)。

如上商標(biāo)用于接觸角測量儀、表面張力儀、界面張力儀的商品或服務(wù)。侵權(quán)必究！